По информации газеты The Electronic Times из Южной Кореи, компания “Samsung” смогла доказать клиентам из Китая и Америки свои преимущества в технологиях производства микросхем с технологическим процессом 7 нанометров. Несмотря на то, что клиенты компании остались неназванными, предполагается, что китайским клиентом стала фирма, занимающаяся разработкой однокристальных схем, а американским – компания-производитель полупроводников.

На данный момент известно, что компания “Samsung” не является каким-либо монополистом в плане внедрения техпроцесса и наладить выпуск аналогичных микросхем собирается компания TSMC из Тайваня, причем сделать это она обещает более чем на полгода раньше, чем «Самсунг» — в первом либо втором квартале 2018 года. Так что же могло заинтересовать клиентов компании, помимо новизны самого техпроцесса, связанных с ним преимуществ и желания диверсифицировать поставки технологий?

Преимущества и недостатки технологии от Samsung

Основное – это то, какую именно технологию собирается использовать «Самсунг» для производства микросхем с данным техпроцессом. В отличие от фирмы TSMC, собирающейся использовать технологию производства под уже привычный 193-нм сканер, в “Samsung” решили разработать технологию под более перспективный EUV-сканер. Однако, при всей своей перспективности, обладает данная технология и своими недостатками, основным из которых является её недоработанность на нынешнем этапе её развития. Это уже оттолкнуло некоторых клиентов фирмы, например, компании Qualcomm и Broadcom.

О том, на каком этапе находится данная технология, может свидетельствовать тот факт, что PDK (Process Design Kit) имеет номер 0.1, а версия с порядковым номером 0.5 будет готова в конце декабря. На устранение недоработок уйдет какое-то время, однако компания надеется, что полученные преимущества перекроют издержки и на это есть серьезные основания.

Сканер

Преимущества, которые может дать EUV-сканер (или, по-другому, сканер для фотолитографии в глубоком ультрафиолете) весьма значительны:

  • За счет уменьшения длины волны со 193 до 13,5нм резко повышается детализация и качество микросхемы;
  • За один проход становиться возможным сделать то, что можно было сделать за несколько, повышается скорость работы.

Производство

На данный момент к производству готовится завод 17Line в Хвасоне, где уже установлен первый из заказанных EUV-сканеров, однако данный завод уже загружен массой заказов и для дальнейшего развертывания производства компания планирует построить новый завод на месте автостоянки вблизи старого. Объемы производства составят от 40 до 50 тысяч пластин в год.

comments powered by HyperComments